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奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現

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奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現
奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53M的核心競爭力,很大程度源于其光學系統的精細化設計。該機型搭載了品牌經典的UIS2無限遠校正光學系統,這一設計通過優化透鏡組排列,有效減少光線在傳輸過程中的損耗與像差,為高對比度成像奠定基礎。

產品型號:
更新時間:2025-10-23
廠商性質:代理商
訪問量:101
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奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現

奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53M的核心競爭力,很大程度源于其光學系統的精細化設計。該機型搭載了品牌經典的UIS2無限遠校正光學系統,這一設計通過優化透鏡組排列,有效減少光線在傳輸過程中的損耗與像差,為高對比度成像奠定基礎。


具體來看,GX53M標配4孔物鏡轉盤,可安裝MPLN系列平場消色差物鏡,覆蓋50X-1000X常用放大倍數。其中,50X物鏡數值孔徑(NA)為0.15,工作距離3.5mm,適合初步觀察材料表面形貌;100X油鏡NA達0.95,工作距離0.17mm,配合浸油使用時,能捕捉更細微的組織細節。目鏡方面,采用10X寬視野目鏡(FN22),視場數22mm,觀察時視野更開闊,便于定位樣本區域。
光源系統是另一大亮點。GX53M配備12V/100W鹵素燈,配合可變光闌與聚光鏡調節,可精準控制照明強度與均勻度。用戶反饋顯示,針對不同反射率的樣本(如拋光金屬、非金屬夾雜物),通過調整柯勒照明,能有效避免光斑不均或過曝問題。此外,可選配LED冷光源模塊(需定制),壽命長達2萬小時,適合長時間連續觀察場景。
參數表中,光學性能的關鍵指標還包括:視場直徑(φ22mm)、齊焦距離(∞)、蓋玻片厚度修正范圍(0-2mm)。這些設計讓GX53M在金屬材料晶粒度分析、鑄件缺陷檢測等場景中,能提供穩定清晰的圖像輸出。對于實驗室或工業檢測場景而言,光學系統的可靠性直接影響數據準確性,而GX53M通過成熟的UIS2技術與模塊化物鏡配置,滿足了多數常規金相觀察需求。
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